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以()等两层材料所组合而成的导电层便称为Polycide。

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    单晶硅(single crystal silicon)、测量方法(measurement method)、比色法(colorimetry)、多晶硅(polysilicon)、氮化硅(silicon nitride)、无损伤(no damage)、圆偏振光(circularly polarized light)、干氧氧化(dry oxidation)、偏振光法(polarized light method)、速度慢(slow speed)

  • [多选题]以()等两层材料所组合而成的导电层便称为Polycide。

  • A. 单晶硅
    B. 多晶硅
    C. 硅化金属
    D. 二氧化硅
    E. 氮化硅

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  • 学习资料:
  • [单选题]干氧氧化(dry oxidation)法有一些优点,但同时它的缺点有()。
  • A. 生长出的二氧化硅中引入很多可动离子
    B. 氧化的速度慢(slow speed)
    C. 生长的二氧化硅缺陷多
    D. 生长的二氧化硅薄膜钝化效果差

  • [多选题]二氧化硅薄膜厚度的测量方法有()。
  • A. 比色法
    B. 双光干涉法
    C. 椭圆偏振光(circularly polarized light)
    D. 腐蚀法
    E. 电容-电压法

  • [单选题]当注入剂量增加到某个值时,损伤量不再增加,趋于饱和。开始饱和的注入剂量称为()。
  • A. 临界剂量
    B. 饱和剂量
    C. 无损伤剂量
    D. 零点剂量

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