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集成电路制造工艺员(三级)题库2022相关专业每日一练(07月05日)

来源: 必典考网    发布:2022-07-05     [手机版]    
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必典考网发布集成电路制造工艺员(三级)题库2022相关专业每日一练(07月05日),更多集成电路制造工艺员(三级)题库的每日一练请访问必典考网集成电路制造工艺员题库频道。

1. [单选题]在靶片前方设一抑制栅,作用是将()抑制回去,从而保证测量的准确性。

A. 二次电子
B. 二次中子
C. 二次质子
D. 无序离子


2. [单选题]请在下列选项中选出硅化金属的英文简称:()。

A. A.OxideB.NitrideC.SilicideD.Polycide


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