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化学镀铜时最常用的还原剂是()。

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    光刻胶、去离子水(deionized water)、安全问题(security problem)、还原剂(reducing agent)、化学药品(chemicals)、性问题(sex problem)、氯化铜(copper chloride)

  • [单选题]化学镀铜时最常用的还原剂是()。

  • A. A、次磷酸盐
    B. B、甲醛
    C. C、肼
    D. D、乙醇

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  • [多选题]下列为碱性氯化铜(copper chloride)蚀刻液特点的有()。
  • A. 蚀刻速率快
    B. 蚀刻速率比较容易控制
    C. 溶铜量大
    D. 再生容易

  • [多选题]湿法蚀刻具有以下哪些缺点()。
  • A. 化学药品处理时人员会遭遇的安全问题
    B. 反应溶液及去离子水需花费较高成本
    C. 光刻胶会产生附着性问题(sex problem)
    D. 蚀刻不均匀

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