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危害半导体工艺的典型金属杂质是()。

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    碱金属(alkali metal)、半导体(semiconductor)、稀有金属(rare metal)

  • [单选题]危害半导体工艺的典型金属杂质是()。

  • A. 2族金属
    B. 碱金属
    C. 合金金属
    D. 稀有金属

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  • 学习资料:
  • [单选题]钠、钾等大离子在二氧化硅结构中是()杂质。
  • A. 替位式
    B. 间隙式
    C. 施主
    D. 可能是替位式也可能是间隙式

  • [多选题]在对层间绝缘膜进行CMP时,层间绝缘膜的表面会随下列那些因素产生变化()。
  • A. 电路图形结构的凹凸
    B. 尺寸大小
    C. 位置分布
    D. 高度
    E. 密集程度

  • [单选题]复合床和混合床可以串联使用。复合床就是指将阳树脂和阴树脂分别装在两个()内串接起来。
  • A. 交换柱
    B. 混合床
    C. 混合柱
    D. 复合柱

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