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关于正胶和负胶的特点,下列说法正确的是()。

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    热扩散(thermal diffusion)、加速器(accelerator)、离子源(ion source)、扫描器(scanner)、分析器(analyzer)、玻璃器皿(glassware)、化合物半导体(compound semiconductor)、金属器皿(metalware)

  • [多选题]关于正胶和负胶的特点,下列说法正确的是()。

  • A. 正胶在显影时不会发生膨胀,因此分辨率高于负胶
    B. 正胶的感光区域在显影时不溶解,负胶的感光区域在显影时溶解
    C. 负胶在显影时不会发生膨胀,因此分辨率不会降低
    D. 正胶的感光区域在显影时溶解,负胶的感光区域在显影时不溶解
    E. 负胶在显影时会发生膨胀,导致了分辨率的降低

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  • 学习资料:
  • [单选题]在将清洗完的硅片放进扩散炉扩散时,需要将硅片先装入(),然后再装入扩散炉。
  • A. 耐热陶瓷器皿
    B. 金属器皿(metalware)
    C. 石英舟
    D. 玻璃器皿(glassware)

  • [单选题]化合物半导体(compound semiconductor)砷化镓常用的施主杂质是()。
  • A. 锡
    B. 硼
    C. 磷
    D. 锰

  • [单选题]在热扩散工艺中的预淀积步骤中,硼在900~1050℃的条件下,扩散时间大约()为宜。
  • A. 4~6h
    B. 50min~2h
    C. 10~40min
    D. 5~10min

  • [单选题]离子源产生的离子在()的加速电场作用下得到加速。
  • A. 分析器
    B. 扫描器
    C. 加速器
    D. 偏转器

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