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硅微体刻蚀加工和硅微面刻蚀加工的区别在于()。

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  • 【名词&注释】

    分辨率(resolution)、电子束曝光(electron beam lithography)、离子束(ion beam)

  • [单选题]硅微体刻蚀加工和硅微面刻蚀加工的区别在于()。

  • A. 体刻蚀加工对基体材料进行加工,而面刻蚀加工不对衬底材料进行加工;
    B. 体刻蚀加工不对基体材料进行加工,而面刻蚀加工对衬底材料进行加工;
    C. 体刻蚀加工可获得高纵横比的结构,而面刻蚀加工只能获得较低纵横比的结构;

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  • 学习资料:
  • [单选题]光刻加工采用的曝光技术中具有最高分辨率的是()。
  • A. 电子束曝光技术
    B. 离子束曝光技术
    C. X射线曝光技术

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