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控制硬件糖产品的甜度和粘度是衡量硬糖制作工艺技术水平的重要内

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    基体干扰(matrix interference)、大气压(atmospheric pressure)、重要内容(important content)、光谱干扰、经验值(empirical value)、化学作用(chemical action)、工艺技术水平(technology level)、分析线波长

  • [判断题]控制硬件糖产品的甜度和粘度是衡量硬糖制作工艺技术水平(technology level)的重要内容。

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  • 学习资料:
  • [单选题]由待测元素与其他组分之间发生的化学作用(chemical action)所引起的干扰是()。
  • A. 光谱干扰
    B. 基体干扰
    C. 化学干扰
    D. 背景吸收

  • [单选题]原子吸收分光光度法测定锰的分析线波长为()
  • A. 213.8nm
    B. 248.3nm
    C. 285.Onm
    D. 279.5nm

  • [单选题]审核某一检测值是否能采用,通常依据的是()。
  • A. 方法的允许误差
    B. 经验值
    C. 标准值
    D. 合同要求

  • [单选题]糖果水分测定应控制干燥箱内空气压力约为()进行干燥。
  • A. 常压
    B. 两个大气压
    C. 100-113KPa
    D. 40-53KPa

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