净化室里废气收集管系统分为两类，分别是（）。

【名词&注释】

光刻胶、化学反应(chemical reaction)、排水系统(drainage system)、黏附性(adhesion ability)、反应离子刻蚀、等离子体刻蚀(plasma etching)、顺利进行

[多选题]净化室里废气收集管系统分为两类，分别是（）。

A. 一般排气系统
B. 特殊排气系统
C. 制程排气系统
D. 专用排气系统
E. 排气排水系统

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学习资料：

[单选题]在深紫外曝光中，需要使用（）光刻胶。

A. DQN
B. CA
C. ARC
D. PMMA

[多选题]涂胶之前，要保证晶片的质量以及涂胶工序的顺利进行，下列操作正确的是（）。

A. 进行去水烘烤以保证晶片干燥
B. 在晶片表面涂上增粘剂以保证晶片黏附性好
C. 刚刚处理好的晶片应立即涂胶
D. 贮存的晶片在涂胶前必须再次清洗及干燥
E. 也可以直接使用贮存的晶片

[单选题]铜与氯形成的化合物挥发能力不好，因而铜的刻蚀无法以化学反应来进行，而必须施以（）。

A. 等离子体刻蚀^{(plasma etching)}
B. 反应离子刻蚀
C. 湿法刻蚀
D. 溅射刻蚀

[单选题]（）是以物理的方法来进行薄膜沉积的一种技术。

A. LPCVD
B. PECVD
C. CVD
D. PVD

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