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硅片上的氧化物主要通过()和()的方法产生,由于硅片表面非常

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    氧化物(oxide)

  • [填空题]硅片上的氧化物主要通过()和()的方法产生,由于硅片表面非常平整,使得产生的氧化物主要为层状结构,所以又称为()。

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