（）是测量在刻蚀过程中物质被移除的速率有多快的一种参数。

【名词&注释】

离子注入(ion implantation)、功率密度(power density)、激光束(laser beam)、二次电子(secondary electron)、激光退火(laser annealing)、准确性。

[单选题]（）是测量在刻蚀过程中物质被移除的速率有多快的一种参数。

A. 刻蚀速率
B. 刻蚀深度
C. 移除速率
D. 刻蚀时间

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学习资料：

[单选题]在靶片前方设一抑制栅，作用是将（）抑制回去，从而保证测量的准确性。

A. 二次电子
B. 二次中子
C. 二次质子
D. 无序离子

[单选题]（）就是用功率密度很高的激光束照射半导体表面，使其中离子注入层在极短的时间内达到高温，消除损伤。

A. 热退火
B. 激光退火^{(laser annealing)}
C. 连续激光退火^{(laser annealing)}
D. 脉冲激光退火^{(laser annealing)}

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