降低靶的温度，有利于非晶层的形成，所以临界注入量随之（）。

【名词&注释】

等离子(plasma)、有利于(beneficial to)、原子数(atomicity)

[单选题]降低靶的温度，有利于非晶层的形成，所以临界注入量随之（）。

A. 增大
B. 减小
C. 不变
D. 变为0

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学习资料：

[单选题]在刻蚀（）过程中假如我们在CF5的等离子体内加入适量的氧气，能够提高刻蚀的速率。

A. 铜
B. 铝
C. 金
D. 二氧化硅

[单选题]（）是指每个入射离子溅射出的靶原子数。

A. 溅射率
B. 溅射系数
C. 溅射效率
D. 溅射比

[多选题]一般来说，溅射镀膜的过程包括（）这几步。

A. 产生一个离子并导向靶
B. 被轰击的原子向硅晶片运动
C. 离子把靶上的原子轰出来
D. 经过加速电场加速
E. 原子在硅晶片表面凝结

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