在刻蚀二氧化硅过程中假如我们在CF4的（）内加入适量的氢气，能

【名词&注释】

分辨率(resolution)、磁分析器(magnetic analyzer)、密切相关(closely related)

[单选题]在刻蚀二氧化硅过程中假如我们在CF4的（）内加入适量的氢气，能够降低刻蚀的速率。

A. 气体
B. 等离子体
C. 固体
D. 液体

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学习资料：

[单选题]He，OH，Na等元素在900℃下，在二氧化硅中的扩散率大于10－13cm2/s，这些元素称为（）。

A. 活跃杂质
B. 快速扩散杂质
C. 有害杂质
D. 扩散杂质

[多选题]关于正胶和负胶的特点，下列说法正确的是（）。

A. 正胶在显影时不会发生膨胀，因此分辨率高于负胶
B. 正胶的感光区域在显影时不溶解，负胶的感光区域在显影时溶解
C. 负胶在显影时不会发生膨胀，因此分辨率不会降低
D. 正胶的感光区域在显影时溶解，负胶的感光区域在显影时不溶解
E. 负胶在显影时会发生膨胀，导致了分辨率的降低

[单选题]损伤的分布与注入离子在在靶内的（）的分布密切相关。

A. 能量淀积
B. 动量淀积
C. 能量振荡
D. 动量振荡

[单选题]（）的气体源中一般包含H+，C+，B+，Cl+，O+等离子。

A. Cl2
B. BCl3
C. CO2
D. H2

[单选题]在磁分析器中常用（）分析磁铁。

A. 柱形
B. 扇形
C. 方形
D. 圆形

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