【导读】
必典考网发布集成电路制造工艺员(三级)题库2022历年考试试题集锦(9Z),更多集成电路制造工艺员(三级)题库的考试试题请访问必典考网集成电路制造工艺员题库频道。
1. [单选题]二氧化硅生长过程中,当分凝系数小于1时,会使二氧化硅-硅界面处硅一侧的杂质浓度()。
A. 降低
B. 增加
C. 不变
D. 先降低后增加
2. [多选题]一般来说,溅射镀膜的过程包括()这几步。
A. 产生一个离子并导向靶
B. 被轰击的原子向硅晶片运动
C. 离子把靶上的原子轰出来
D. 经过加速电场加速
E. 原子在硅晶片表面凝结