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集成电路制造工艺员(三级)题库2022历年考试试题集锦(9Z)

来源: 必典考网    发布:2022-09-26     [手机版]    
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必典考网发布集成电路制造工艺员(三级)题库2022历年考试试题集锦(9Z),更多集成电路制造工艺员(三级)题库的考试试题请访问必典考网集成电路制造工艺员题库频道。

1. [单选题]二氧化硅生长过程中,当分凝系数小于1时,会使二氧化硅-硅界面处硅一侧的杂质浓度()。

A. 降低
B. 增加
C. 不变
D. 先降低后增加


2. [多选题]一般来说,溅射镀膜的过程包括()这几步。

A. 产生一个离子并导向靶
B. 被轰击的原子向硅晶片运动
C. 离子把靶上的原子轰出来
D. 经过加速电场加速
E. 原子在硅晶片表面凝结


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