集成电路制造工艺员（三级）题库2022全套模拟试题263

1. [单选题]采用热氧化方法制备的二氧化硅从结构上看是（）的。

A. 结晶形态
B. 非结晶形态
C. 可能是结晶形态的，也可能是非结晶形态的
D. 以上都不对

2. [多选题]按曝光的光源分类，曝光可以分为（）。

A. 光学曝光
B. 离子束曝光
C. 接近式曝光
D. 电子束曝光
E. 投影式曝光

3. [多选题]哪种方法可以增加缺陷的积累率而降低临界注入量：（）。

A. 低温注入
B. 常温注入
C. 高温注入
D. 分子注入
E. 双注入

4. [多选题]直流二极管辉光放电系统是由（）构成。

A. 抽真空的玻璃管^{(glass tube)}
B. 抽真空后再充入某种低压气体的玻璃管^{(glass tube)}
C. 两个电极
D. 加速器
E. 增益管

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