2022集成电路制造工艺员（三级）题库备考每日一练(04月18日)

1. [单选题]一般分析扩散系数，考虑两种条件，即恒定表面浓度^{(surface concentration)}条件和（）。

A. 恒定总掺杂剂量
B. 不恒定总掺杂剂量
C. 恒定杂志浓度
D. 不恒定杂志浓度

2. [多选题]在半导体工艺中，与氮化硅比较，二氧化硅更适合应用在（）。

A. 晶圆顶层的保护层
B. 多层金属的介质层
C. 多晶硅与金属之间的绝缘层^{(insulating layer)}
D. 掺杂阻挡层
E. 晶圆片上器件之间的隔离

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