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位于上颌硬区的一侧或两侧的连接杆是()。

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    接触面(interface)、可摘局部义齿(removable partial denture)、软组织(soft tissue)、不均匀(uneven)、烤瓷牙(porcelain fused to mental crown)、水平面(horizontal plane)、人工牙(artificial tooth)、外形高点(height of contours)

  • [单选题]位于上颌硬区的一侧或两侧的连接杆是()。

  • A. 前腭杆
    B. 中腭杆
    C. 后腭杆
    D. 正中腭杆
    E. 侧腭杆

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  • 学习资料:
  • [单选题]可摘局部义齿前牙的选择,下列与美学无关的是()。
  • A. 选择人工牙(artificial tooth)形态
    B. 选择人工牙(artificial tooth)颜色
    C. 选择人工牙(artificial tooth)的大小
    D. 依据同名牙、余留牙
    E. 依据牙槽骨

  • [单选题]牙合堤唇面的标志线是()。
  • A. A.中线B.口角线C.唇高线D.唇低线E.以上均是

  • [单选题]制作上颌基托时,其基托伸展范围的大小与下列哪项内容关系不密切?()
  • A. A.缺失区的部位B.缺牙的多少C.牙槽嵴的吸收程度D.支持形式E.人工牙(artificial tooth)的种类

  • [单选题]为保证磁性附着体的固位力,下列措施不恰当的是()。
  • A. A.打磨和抛光磁体和衔铁接触面B.使磁体和衔铁接触面对位准确C.使衔铁与根帽结合时与水平面(horizontal plane)平行D.使衔铁与磁体的接触面完全暴露E.使衔铁与磁体的接触面紧密接触

  • [单选题]患者,男,右上1、2牙体有较大缺损,余牙及咬合均无异常,要求制作烤瓷牙。如果以金属底层恢复缺损,下列不是其结果的是()。
  • A. A.使瓷层不至于局部过厚,造成气化率上升B.使瓷层不至于局部过厚,造成色泽不均匀C.使瓷层不至于局部过厚,造成冷却收缩瓷裂D.使瓷层不至于局部过厚,冷却时对金属底冠造成过大应力使底冠变形E.以上答案均正确

  • [单选题]第二类导线是指()
  • A. A.基牙牙冠的外形高点(height of contours)线B.基牙向缺隙方向倾斜,颊、舌面的主要倒凹区靠近缺隙C.口腔模型上硬、软组织的倒凹区和非倒凹区D.基牙向缺隙的相反方向倾斜,颊、舌面的主要倒凹区远离缺隙E.基牙向颊侧或舌侧倾斜,或导线接近面,倒凹区分布广泛可摘局部义齿是根据基牙三类不同的导线,设计出不同的卡环

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