【导读】
必典考网发布2022半导体芯片制造中级工题库考试试题下载(8I),更多半导体芯片制造中级工题库的考试试题请访问必典考网半导体芯片制造工题库频道。
1. [单选题]腐蚀二氧化硅的水溶液一般是用()
A. A、盐酸
B. B、硫酸
C. C、硝酸
D. D、氢氟酸
2. [单选题]在温度相同的情况下,制备相同厚度的氧化层,分别用干氧,湿氧和水汽氧化,哪个需要的时间最长?()
A. A、干氧
B. B、湿氧
C. C、水汽氧化
D. D、不能确定哪个使用的时间长