【导读】
必典考网发布2022集成电路制造工艺员题库集成电路制造工艺员(三级)题库模拟考试题177,更多集成电路制造工艺员(三级)题库的模拟考试请访问必典考网集成电路制造工艺员题库频道。
1. [多选题]关于正胶和负胶的特点,下列说法正确的是()。
A. 正胶在显影时不会发生膨胀,因此分辨率高于负胶
B. 正胶的感光区域在显影时不溶解,负胶的感光区域在显影时溶解
C. 负胶在显影时不会发生膨胀,因此分辨率不会降低
D. 正胶的感光区域在显影时溶解,负胶的感光区域在显影时不溶解
E. 负胶在显影时会发生膨胀,导致了分辨率的降低
2. [多选题]()专指薄膜形成的过程中,并不消耗晶片或底材的材质。
A. 薄膜成长
B. 蒸发
C. 薄膜沉积
D. 溅射
E. 以上都正确
3. [单选题]化学气相沉积的英文名称的缩写为()。
A. LVD
B. PED
C. CVD
D. PVD
4. [多选题]电气测量仪表若按照电流的种类来分,有()。
A. 低压仪表
B. 高压仪表
C. 直流仪表
D. 交流仪表
E. 交直流仪表