离子注入会将原子撞击出晶格结构而损伤硅片晶格，高温退火过程能

【名词&注释】

离子注入(ion implantation)

[判断题]离子注入会将原子撞击出晶格结构而损伤硅片晶格，高温退火过程能使硅片中的损伤部分或绝大部分得到消除，掺入的杂质也能得到一定比例的电激活。

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