半导体芯片制造中级工题库2022考试试题(4AB)

1. [单选题]腐蚀二氧化硅的水溶液一般是用（）

A. A、盐酸
B. B、硫酸
C. C、硝酸
D. D、氢氟酸

2. [单选题]从离子源引出的是：（）

A. A、原子束^{(atomic beam)}
B. B、分子束
C. C、中子束
D. D、离子束

3. [单选题]将预先制好的掩膜直接和涂有光致抗蚀剂的晶片表面接触，再用紫外光照射来进行曝光的方法，称为（）曝光。

A. 接触
B. 接近式
C. 投影

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