半导体芯片生产中，离子注入主要是用来（）。

【名词&注释】

铝合金(aluminum alloy)、半导体(semiconductor)、去离子水(deionized water)、离子注入(ion implantation)、矿泉水(mineral water)、自来水(tap water)、蒸馏水(distilled water)

[多选题]半导体芯片生产中，离子注入主要是用来（）。

A. 氧化
B. 改变导电类型
C. 涂层
D. 改变材料性质
E. 镀膜

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学习资料：

[多选题]下列扩散杂质源中，（）不仅是硅常用的施主杂质，也是锗常用的施主杂质。

A. 硼
B. 锡
C. 锑
D. 磷
E. 砷

[多选题]下列物质的等离子体适合用以刻蚀铝合金中硅的有（）。

A. CF4
B. BCl3
C. Cl2
D. F2
E. CHF3

[单选题]在半导体器件制造中，对清洗用水的纯度有比较高的要求，要用经过纯化的（）作为清洁用水。

A. 蒸馏水^{(distilled water)}
B. 自来水^{(tap water)}
C. 去离子水
D. 矿泉水

[单选题]我们可以从测量去离子水的酸度来判别阴阳树脂谁先失效，阴树脂先失效，水呈（）性。

A. 酸
B. 碱
C. 弱酸
D. 弱碱

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