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氮氧化合物和碳氢化合物在太阳光照射下,会产生二次污染——光化学

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    电子密度(electron density)、热电偶(thermocouple)、冷却水(cooling water)、解热镇痛药(antipyretic analgesics)、接触电势(contact potential)、二次污染(secondary pollution)、苯甲酸钠(sodium benzoate)、阿斯匹林(aspirin)、安息香酸(benzoic acid)、主要原料(main raw material)

  • [判断题]氮氧化合物和碳氢化合物在太阳光照射下,会产生二次污染——光化学烟雾。

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  • [单选题]用于制备解热镇痛药“阿斯匹林(aspirin)”的主要原料(main raw material)是()
  • A. 水杨酸
    B. 碳酸
    C. 苦味酸
    D. 安息香酸(benzoic acid)

  • [单选题]在食品及药品工业中,常用()作为防腐剂
  • A. A、碳酸氢钠
    B. B、乙酸钠
    C. C、苯甲酸钠(sodium benzoate)
    D. D、苯乙酸钠

  • [单选题]热电偶接触电势产生的原因是由于两种不同导体A与B接触时两者()而形成的点位差
  • A. A.冷端与热端的温度不同
    B. B.导体A与导体B电子密度不同
    C. C.导体A与导体B的不同
    D. D.两导体粗细不同

  • [多选题]吸收系统停车时,对吸收塔操作应采取()。
  • A. 前部停车后,待被吸收气体逐渐减少,直至结束,在停止吸收剂系统
    B. 将吸收剂回收至储罐
    C. 清洗、吹扫设备管线
    D. 停系统冷却水

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