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采用正硅酸乙酯包埋料包埋,其内层每次置入氨气(含量﹥36%)干燥

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    下颌运动(mandibular movement)、垂直距离(vertical dimension)、组成部分(part)、重要因素(important factors)、正硅酸乙酯(teos)、全口义齿修复、连接体(connector)、正中关系位(centric relation position)、横截面积(cross sectional area)、固定桥桥体(pontic of fixed bridge)

  • [单选题]采用正硅酸乙酯包埋料包埋,其内层每次置入氨气(含量﹥36%)干燥箱内干燥处理的时间不得少于 ( )

  • A. 10min
    B. 5min
    C. 15min
    D. 3min
    E. 时间越短越好

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  • 学习资料:
  • [单选题]颞下颌关节脱位复位后应限制下颌运动。限制下颌运动的时间约为
  • A. 3日
    B. 1周
    C. 2周
    D. 4周

  • [单选题]与固定桥桥体(pontic of fixed bridge)龈面自洁性直接有关的是
  • A. 龈面接触形态
    B. 牙槽嵴宽窄度
    C. 龈面横截面积(cross sectional area)
    D. 牙槽嵴吸收程度
    E. 龈面采用的材料

  • [单选题]当焙烧铸圈的温度升至900℃时,需维持 ( )
  • A. 10min
    B. 5min
    C. 15~20min
    D. 1h
    E. 2h

  • [单选题]患者,男,78岁,无牙颌,一周前行全口义齿修复。复诊主诉:大张口、进食,说话时义齿碰撞脱落,查患者表情自然,颌位关系正常,造成此症状的最可能的原因为 ( )
  • A. 垂直距离过小
    B. 基托不密合
    C. 非正中关系位(centric relation position)
    D. 垂直距离过大
    E. 上颌结节颊侧基托过厚

  • [多选题]固定义齿的组成部分是
  • A. 基牙
    B. 固位体
    C. 桥体
    D. 基托
    E. 连接体(connector)

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