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集成电路制造工艺员(三级)题库2022历年考试试题汇总(0K)

来源: 必典考网    发布:2022-04-20     [手机版]    
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必典考网发布集成电路制造工艺员(三级)题库2022历年考试试题汇总(0K),更多集成电路制造工艺员(三级)题库的考试试题请访问必典考网集成电路制造工艺员题库频道。

1. [单选题]对于浓度覆盖很宽的杂质原子,可以采用()方法引入到硅片中。

A. 离子注入
B. 溅射
C. 淀积
D. 扩散


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