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基托抛光后,其表面凹凸不平的主要原因是()

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    印模材料(impression materials)、全口义齿修复、使用不当(improper use)、基础上(basis)、分离剂(separating agent)、凹凸不平(unsmooth)、非贵金属烤瓷桥、外形高点(height of contours)

  • [单选题]基托抛光后,其表面凹凸不平(unsmooth)的主要原因是()

  • A. 湿布轮使用不当
    B. 细打磨时留下的磨痕
    C. 粗打磨时留下的磨痕
    D. 抛光时转速过高
    E. 没有使用抛光膏

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  • 学习资料:
  • [单选题]用两个半侧部分托盘左、右分别印模,两者有部分重叠,最后分别取出拼在一起灌模的方法是()
  • A. 分段印模
    B. 分层印模
    C. 分瓣印模
    D. 二次印模
    E. 裂缝托盘印模

  • [单选题]患者,男,60岁,全口义齿修复2年,上半口义齿纵裂,检查:基托纵裂从左上1右上1开始沿中线延至义齿后缘,采用自凝修理时,下面哪项操作是错误的()
  • A. 准确对位,粘结折裂基托
    B. 灌注石膏模型
    C. 涂塑前磨去折裂线两侧基托
    D. 单体溶胀、涂塑基托外形
    E. 涂塑后迅速放入烫水中

  • [单选题]确定基牙倒凹的是()
  • A. 牙体长轴线
    B. 牙冠外形高点(height of contours)线
    C. 导线
    D. 牙冠形态
    E. 基牙倾斜方向

  • [单选题]非贵金属烤瓷桥修复,金属基底预氧化应在除气的基础上再加热至预定终点温度,在非真空状态下继续维持的时间为()
  • A. 1min
    B. 2min
    C. 3min
    D. 4min
    E. 5min

  • [单选题]冠核熔模工作前模型处理,以下哪项内容正确()
  • A. 去除模型根面边缘石膏瘤
    B. 观察根管内有无倒凹
    C. 去除根管内残余印模材料
    D. 于根面及根管内涂布分离剂
    E. 以上均是

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